純化水設(shè)備是采反滲透除鹽技術(shù)對(duì)水進(jìn)行處理，使出水水質(zhì)符合GMP認(rèn)證標(biāo)準(zhǔn)，符合中國(guó)藥典2010年版純化水標(biāo)準(zhǔn)。萊特萊德上海水處理公司生產(chǎn)的純化水設(shè)備的核心元件是進(jìn)口的復(fù)合膜，又采兩級(jí)殺菌消毒技術(shù)對(duì)水進(jìn)行處理，從而將水中的分子、離子、熱源、膠體微生物等有害物質(zhì)徹底分離，從未達(dá)到凈化水的目的。
純化水設(shè)備工藝流程
1、原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級(jí)反滲透設(shè)備→中間水箱→中間水泵→離子交換器→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→水點(diǎn)
2、原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→級(jí)反滲透→PH調(diào)節(jié)→中間水箱→第二級(jí)反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→水點(diǎn)
3、原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級(jí)反滲透機(jī)→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→水點(diǎn)
純化水設(shè)備的特點(diǎn)
1、產(chǎn)水符合2010版藥典純化水標(biāo)準(zhǔn)，可符合GMP標(biāo)準(zhǔn)。
2、直接自來水制成土無菌超純水，能完全替代蒸餾水及雙蒸水。
3、純化水設(shè)備采進(jìn)口泵、反滲膜等部件。
4、采進(jìn)口儀表，能對(duì)水質(zhì)準(zhǔn)確、連續(xù)分析、顯示。
5、純化水設(shè)備全自動(dòng)操作系統(tǒng)，自動(dòng)沖洗。

濕式反滲透膜元件基本上是由于生產(chǎn)廠商執(zhí)行的質(zhì)量體系為全量檢測(cè)，要求每支出廠的反滲透膜元件都要進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)溶液檢測(cè)，只要通過標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試的反滲透膜元件才能作為合格產(chǎn)品出貨。
而干式反滲透膜元件廠家執(zhí)行的是產(chǎn)品抽檢體系，每個(gè)批次的膜元件進(jìn)行抽檢標(biāo)準(zhǔn)溶液測(cè)試，抽檢后的膜元件為濕式膜元件，未檢測(cè)的膜元件為干式膜元件。
使用反滲透膜片的區(qū)別：常規(guī)的芳香族聚酰胺反滲透復(fù)合膜片的制造工藝大同小異，即把聚酯無紡布作為結(jié)構(gòu)強(qiáng)度基層，在無紡布上預(yù)先涂敷一層高透水性微孔聚砜作為支撐層，然后通過界面重縮合法形成超薄膜的分離功能層，一般為濕膜。如需要干膜，還需將濕膜片進(jìn)入干燥單元。因此，干膜片與濕膜片的區(qū)別在于干膜片是濕膜片經(jīng)烘干制成。
反滲透膜元件卷制過程的區(qū)別：濕式膜元件使用的膜片為濕膜片，干式膜元件使用的膜片為干膜片，兩者的卷制工藝流程沒有明顯差異。
濕式反滲透膜膜元件的優(yōu)點(diǎn)：
1、濕式反滲透膜膜元件一般每支膜元件出廠前都進(jìn)行過膜元件的性能檢測(cè)，都能保證每支出廠膜元件的性能達(dá)到了標(biāo)準(zhǔn)，杜絕了瑕疵膜元件產(chǎn)品的出廠。
2、濕式反滲透膜膜元件初始性能優(yōu)越，現(xiàn)場(chǎng)安裝后經(jīng)過簡(jiǎn)單的沖洗即可達(dá)到膜元件的Z好性能，節(jié)省啟動(dòng)時(shí)間和沖洗水源。
3、濕式膜元件的反滲透基本性能一般優(yōu)越于干式膜元件，即膜元件的脫鹽率和產(chǎn)水量稍具優(yōu)勢(shì)。
濕式反滲透膜膜元件的缺點(diǎn)：
1、濕式膜元件需要用保護(hù)液或者其他防護(hù)措施，膜元件需要始終保持濕潤(rùn)狀態(tài)及保持膜元件不發(fā)生微生物污染。
2、由于膜元件是濕潤(rùn)狀態(tài)，冬季冰點(diǎn)以下的運(yùn)輸Z好使用保溫車輛運(yùn)輸或者到達(dá)目的地后需要在冰點(diǎn)以上的場(chǎng)所內(nèi)進(jìn)行保存。
干式反滲透膜膜元件的優(yōu)點(diǎn)：
1、干式膜元件的制造技術(shù)和設(shè)備相對(duì)復(fù)雜一些，但干式膜元件不用保護(hù)液或者其他防護(hù)措施，重量輕，運(yùn)輸費(fèi)用相對(duì)較低，膜元件存放時(shí)間較長(zhǎng)。
2、干式膜元件由于沒有濕潤(rùn)，冬季冰點(diǎn)以下運(yùn)輸不用車輛，運(yùn)輸方便，同時(shí)對(duì)保存場(chǎng)所的條件要求也低。
干式反滲透膜膜元件的缺點(diǎn)：
1、膜元件出廠前采用抽檢，不能保證每支出廠的膜元件的性能都能達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)，出廠的膜元件有瑕疵的存在可能性。
2、膜元件裝入系統(tǒng)后初期性能偏低，需要長(zhǎng)時(shí)間浸泡和沖洗，膜元件性能才能逐步達(dá)到Z佳狀態(tài)，浪費(fèi)時(shí)間和沖洗水源。
3、膜元件的反滲透基本性能，即產(chǎn)水量和脫鹽率相對(duì)濕式膜元件一般稍低。

設(shè)備介紹
超濾水處理系統(tǒng)(UF) 通常作為預(yù)處理用，不過也有直接作為終端過濾凈化水用，比如做礦泉水的，都可以采用超濾工藝，像一般的河水，湖泊水處理，經(jīng)過過濾器后也可進(jìn)入超濾進(jìn)行進(jìn)-步的凈化水質(zhì)。
超濾礦泉水設(shè)備
超濾技術(shù)是去除水中懸浮物、原水動(dòng)物、、和部分膠體的過濾方法。這一技術(shù)是保證飲水安全的重要手段，目前多的還是體現(xiàn)在工業(yè)水處理中，無論是做純水還是廢水，超濾都占據(jù)不可替代的位置。
而近幾年國(guó)內(nèi)超濾膜的生產(chǎn)工藝也是不斷提高，在滿足用戶需求的情況下也成本也同時(shí)在降低。超濾膜有分為4寸(UF90)、6寸(UF160) 、8寸(UF200)、10寸(UF250) ，不同尺寸的超濾膜它的產(chǎn)水量也不一樣，通常設(shè)計(jì)單位會(huì)根據(jù)用戶需求以及其原水水質(zhì)情況來選用不同型號(hào)不同尺寸的膜，雖然超濾具有除懸浮物，等的作用，但是無論是自來水或是其它水體都需要配備預(yù)處理，以保證超濾膜的性能及使用壽命。
超濾的預(yù)處理一般都是石英砂過濾器、混凝、活性炭過濾器、保安過濾器等等。具體工藝過程說明如下:
1、石英砂/錳砂過濾器
性能:采用多層不同粒徑的石英砂濾料以能除去原水中較大顆粒的懸浮物、泥沙、雜質(zhì)等降低水的混濁度。使水中的有機(jī)物質(zhì)、、等隨著濁度的降低而大量去除;錳砂濾器能有效降低進(jìn)水的硬度。
特點(diǎn):罐體采用玻璃纖維鋼材料，耐酸堿腐蝕。手動(dòng)控制過濾器的反洗、正洗與運(yùn)行。
超濾礦泉水生產(chǎn)設(shè)備
2.活性炭過濾器
活性炭過濾器主要是用來吸附水中的余氯，保證產(chǎn)水無余氯，還能部分去除或降低水中的色、嗅、味、有機(jī)物、重金屬和農(nóng)藥殘留等有害物質(zhì)。通常其過濾精度為100μm左右，出水濁度≤5NTU。
3、精密過濾器
內(nèi)部填充PP棉濾芯，過濾孔徑5μm,去除水中固體物質(zhì)，減少雜志對(duì)滲透膜的劃傷。
4、超濾設(shè)備
超濾膜可用于除去水中的懸浮微粒、膠體、微生物等。在水壓的作用下水分子及小分子物質(zhì)透過超濾膜，水中的懸浮微粒、膠體、微生物等則被截留在超濾膜的內(nèi)表面。由于絕大多數(shù)和微生物的直徑都大于0.1微米，比超濾膜孔徑大10倍以上，因此超濾膜能有效截留、等，從而產(chǎn)水水良。
5、反洗
經(jīng)過一段時(shí)間的過濾，超濾膜上截留物會(huì)越來越多，為了維持超濾組件產(chǎn)水量的穩(wěn)定，要定期進(jìn)行水反洗/化學(xué)加強(qiáng)反洗，通過反洗使超濾膜產(chǎn)水通量得以恢復(fù)，使設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行。

水質(zhì)：出水水質(zhì)>15MΩ.cm
用途:半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高。目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。  超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,硅片超純水設(shè)備
    半導(dǎo)體（semiconductor），指常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體與絕緣體之間的材料。半導(dǎo)體材料很多，按化學(xué)成分可分為元素半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體兩大類。鍺和硅是常用的元素半導(dǎo)體；化合物半導(dǎo)體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：化鎵、磷化鎵等；Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化鎘、硫化鋅等；氧化物：錳、鉻、鐵、銅的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體：鎵鋁、鎵磷等。除上述晶態(tài)半導(dǎo)體外，還有非晶態(tài)的玻璃半導(dǎo)體、有機(jī)半導(dǎo)體等。
光電材料生產(chǎn)、加工、清洗；液晶顯示屏、離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高，這也對(duì)超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡(jiǎn)易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備，超純水設(shè)備，超純水處理設(shè)備，我們公司生產(chǎn)反滲透＋EDI超純水設(shè)備，有多年的生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)，做過各行業(yè)的水處理設(shè)備，水處理方面我們有豐富的經(jīng)驗(yàn)。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備制備工藝：
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點(diǎn)（≥18MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝) 
  　 2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(diǎn)（≥18MΩ.CM）(工藝) 
　　3、預(yù)處理→一級(jí)反滲透→加藥機(jī)（PH調(diào)節(jié)）→中間水箱→第二級(jí)反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(diǎn)（≥17MΩ.CM）(工藝) 
　　4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(diǎn)（≥15MΩ.CM）(工藝) 
　　5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點(diǎn) （≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)
水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)：
半導(dǎo)體超純水設(shè)備，超純水設(shè)備，超純水處理設(shè)備出水水質(zhì)符合美國(guó)ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國(guó)電子工業(yè)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）我國(guó)電子工業(yè)超純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備，超純水設(shè)備，超純水處理設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域：
電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗；　 超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,硅片超純水設(shè)備
電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水；
黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水；
生產(chǎn)液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液；
晶體管生產(chǎn)中純水主要用于清洗硅片；
集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片；
半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水；
半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗；
高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn)；
汽車、家電表面拋光處理。
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